优抛光布良的洁净能力及污垢；先进的涂布技术及特殊设计结构，能有效预防涂层的脱落；精选的磨料及布基能有效避免划伤。应用编辑TFT-LCD液晶面板制程中玻璃基板表面的清洁，抛光垫厂家，清洁对象包括灰尘、污染物，抛光垫市场，Mark笔笔迹、指纹，密封残胶，玻璃碎屑。砂纸，具有良好的防水性、耐久性、寿命长。表面砂粒均匀，的研磨特性，可以地减少了样品的变形。背胶砂背面为透明PET离型膜，便于清晰的看清砂纸粒度，抛光垫价格，且具有适当的粘性，使用后不残胶等优点。

纳米金刚石微粉

纳米金刚石微粉是高能在负氧条件下爆轰合成而制得的。在爆轰舜间产“生合成金刚石所必需的超高压和高温条件。同时“生的游离碳原子就形成

了纳米级的金刚石颗粒。纳米金刚石不同于通常的静压合成金刚石，没有棱角呈球形、单品粒尺寸只有几个纳米。

主要应用于以下几个方面:

(1)作为超精密抛光和研磨材料，合肥抛光垫，用于磁头、硬盘、宝石、硬质玻璃、陶瓷以及硬质合金的超精密抛光;

(2 )用作润滑剂或者机油的添加剂，能够大大改善I业机械和车辆的运转性能，减少故障，延长使用寿命;

(3)金属模具、工具、部件等的镀膜，能够提高耐磨性、表面硬度、延长使用寿命;

(4 )橡胶或者塑料的增强剂、散热剂。

依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学.半导体化学基础理论等， 对硅单品片化学机械抛光( CMP )机

理、动力学控制过程和影响因素研究标明，化学机械抛光液是一个复杂的多相反应 ，它存在着两个动力学过程:

(1)抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。

(2 )抛光表面反应物脱离硅单晶表面，即解吸过程使未反应的硅单品重新出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。

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