离子束溅射镀膜机

离子束溅射镀膜机厂家

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主营产品 :真空镀膜设备 真空镀膜电源
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商品详情描述

真空镀膜技术又称为气相沉积技术,一般分为两大类,包括物理气相沉积和化学气相沉积。

物理气相沉积是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或使其离子化为离子,直接沉积到基体表面上的方法,主要包括真空蒸镀、溅射镀膜、离子镀膜等。

化学气相沉积是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物、单质气体供给基体,借助气相作用或在基体表面上的化学反应,在基体上制得金属或化合物薄膜的方法,主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。


真空镀膜设备大部份材料在进行镀膜之前,都必须在镀件表面涂上一层薄薄的镀膜油,彻底干燥之后再行镀膜,否则,镀上的金属膜极易脱落,多弧离子镀膜机轻轻用手即可擦掉。真空镀膜过程中,镀膜质量的好坏很大程度上取决于底涂层的质量。真空镀膜技术在塑料制品的应用上最为广泛。塑料具有易成型,成本低,真空磁控溅射镀膜机,质量轻,不腐蚀等特点,塑料制品应用广泛,但因其缺点制约了扩大应用,磁控溅射镀膜机厂家,如不美观、易老化、机械性能差、耐热差、吸水率高等。通过真空镀膜技术的应用,使塑料表面金属化,将有机材料和无机材料结合起来,佛山溅射镀膜机,大大提高了它的物理、化学性能。


蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,离子束溅射镀膜机,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。


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