由于矩形平面磁控溅射靶在靶宽度和长度方向的不对称性质，因此

膜厚的分布在沿靶宽度和长度两个方向并不相同。矩形靶材刻蚀不均匀

性体现在两个方面：一方面是靶宽度方向上刻蚀不均匀，刻蚀形状为倒

正态分布曲线，车灯专用真空镀膜机改造，刻蚀形貌很窄很尖；另一方面，靶端部对角线位置上容

易出现反常刻蚀现象，弯道处刻蚀非常严重。

靶的刻蚀速率及其深度正比于等离子体的浓度，也即正比于从靶面

发射的二次电子与中性原子的离化碰撞频率 灶藻σ（增藻）增藻，车灯专用真空镀膜机设备，其中 灶藻 是电子

浓度，车灯专用真空镀膜机，它正比于电子的耘 伊 月漂移速度，σ（增藻）是工作气体原子的电离截

面，增藻 为电子速度。研究发现，电子的平均动能基本保持恒定（即 增藻 基

本不变）。因此当靶面各处电子产生和消亡的速率平衡时，车灯专用真空镀膜机工厂，根据电子沿

跑道流动的连续性，灶藻 与电子的 耘 伊 月 漂移速度成反比。电子的 耘 伊 月

漂移速度越小，靶面的刻蚀速率越大。

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