膜厚均匀性与磁控溅射靶的工作状态息息相关，如靶的刻蚀状态，

靶的电磁场设计等，因此，为保证膜厚均匀性，不锈钢管材真空镀膜机电话，国外的镀膜设备制造公

司都有各自的关于镀膜设备———包括核心部件“靶”的整套设计方案。

同时，不锈钢管材真空镀膜机公司，还有很多专门从事靶的分析、设计和制造的公司，开发出相关的

应用设计软件，根据客户的要求对设备进行优化设计。国内在镀膜设备

的分析及设计方面与国际先进水平之间还存在较大差距，基本处于仿制

和购买阶段。

在矩形靶的两个端部区域内，溅射轨迹回转和端部电子漂移引起的损

失，使靶在长度方向上的有效溅射均匀区一般只有总长度的苑缘豫 耀愿园豫，不锈钢管材真空镀膜机厂家，

而且在长期运行后，湖北不锈钢管材真空镀膜机，均匀性还要下降。由于靶的边缘没有被溅射，或者可

以说是在靶表面上某点的靶材溅射接近余弦分布（见图员猿鄄 愿），而在靶上

其他任意点的溅射将会对这个点所对应基片点的前面或后面一定距离的

膜层厚度有影响。因此，没有被溅射到的靶边缘处将对到靶区域有一定

距离的基片的沉积速率有影响，使靶端部边缘处所沉积的膜层厚度减

小，这是由于膜层沉积通量在离靶边缘一定距离处的基片对应范围内下

降造成的。

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