深圳市众诚达应用材料科技有限公司  随着电子信息产业的飞速发展，薄膜科学应用日益广泛。溅射法是制备薄膜材料的主要技术之一，溅射沉积薄膜的源材料即为靶材。用靶材溅射沉积的薄膜致密度高，氧化铟锡旋转靶材，附着性好。

靶材简介简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，钛铝旋转靶材，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。深圳市众诚达应用材料科技有限公司

靶材种类

1、金属靶材

铜靶，镍靶，银靶，金靶等

2、陶瓷靶材

氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，南昌旋转靶材，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等

3、合金靶材

铁钴靶FeCo、铝硅靶AlSi、钛硅靶TiSi、铬硅靶CrSi、锌铝靶ZnAl、钛锌靶材TiZn等

靶材的主要性能要求

杂质含量

   靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。

众诚达应用材料公司,钛铝旋转靶材,西安旋转靶材由深圳市众诚达应用材料科技有限公司提供。深圳市众诚达应用材料科技有限公司（www.apgtarget.com）是一家专业从事“溅射靶材,真空镀膜靶材,金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材,”的公司。自成立以来，我们坚持以“诚信为本，稳健经营”的方针，勇于参与市场的良性竞争，使“众诚达”品牌拥有良好口碑。我们坚持“服务至上，用户至上”的原则，使众诚达应用材料公司在有色金属合金中赢得了众的客户的信任，树立了良好的企业形象。 特别说明：本信息的图片和资料仅供参考，欢迎联系我们索取准确的资料，谢谢！