厂商 :深圳市众诚达应用材料科技有限公司
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深圳市众诚达应用材料科技有限公司 随着电子信息产业的飞速发展,薄膜科学应用日益广泛。溅射法是制备薄膜材料的主要技术之一,溅射沉积薄膜的源材料即为靶材。用靶材溅射沉积的薄膜致密度高,氧化铟锡旋转靶材,附着性好。
靶材简介简单说的话,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,钛铝旋转靶材,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤破坏效应。深圳市众诚达应用材料科技有限公司
靶材种类
1、金属靶材
铜靶,镍靶,银靶,金靶等
2、陶瓷靶材
氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,南昌旋转靶材,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等
3、合金靶材
铁钴靶FeCo、铝硅靶AlSi、钛硅靶TiSi、铬硅靶CrSi、锌铝靶ZnAl、钛锌靶材TiZn等
靶材的主要性能要求
杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。