靶材的主要性能要求

杂质含量

   靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，钛铝旋转靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。

靶材简介简单说的话，铬旋转靶材，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。深圳市众诚达应用材料科技有限公司

靶材种类

1、金属靶材

铜靶，镍靶，杭州旋转靶材，银靶，金靶等

2、陶瓷靶材

氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，旋转靶材多少钱，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等

3、合金靶材

铁钴靶FeCo、铝硅靶AlSi、钛硅靶TiSi、铬硅靶CrSi、锌铝靶ZnAl、钛锌靶材TiZn等

靶材的主要性能要求

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

   通常靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材，晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快；而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。

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