肇庆市杰瑞设备有限公司专业制造

真空镀膜设备使用、原理简介、存在问题、及解决方法：

 

左旋钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。

.低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至110mA时，左旋钮'1'旋转至指向2区段测量位置。

 当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时，低压阀推入。这时左旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。

 真空镀膜机开通冷却水，启动扩散泵，镜片专用真空镀膜机，加热40min。

 低压阀拉出。重复一次⑦动作程序：左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动，立式真空镀膜机，当指针移动至6.7Pa时，衢州市真空镀膜机，开高压阀（阀杆顺时针旋转）。

 等低真空表“2”内指针右移动至0.1Pa时，开规管灯丝开关。

 

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真空镀膜设备使用、原理简介、存在问题、及解决方法：

 

主要分类

主要分类有两个大种类： 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，立转飞溅真空镀膜机，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等 。

一、对于蒸发镀膜：

一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。

厚度均匀性主要取决于：

1。基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3. 蒸发功率，速率

4. 真空度

5. 镀膜时间，厚度大小。

 

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