金属靶材相对密度是以什么标准换算的

    北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，合金溅射镀膜靶材， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      比重（specific gravity）是相对密度（relative density）的旧称。相对密度定义为：某物质的密度与参考物质的密度之比。金属靶材通常是合金靶材才会用到相对密度，相对密度高代表含量高。 实际值除以理论值就是了。

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溅射靶材

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      解决溅射过程中的微粒飞溅

      溅射镀膜的过程中， 致密度较小的溅射靶受轰击时， 由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放， 造成大尺寸的靶材颗粒或微粒飞溅， 或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅。这些微粒的出现会降低薄膜品质。如在VLSI 制作工艺过程中，合金溅射镀膜靶材加工，每150 mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。怎样解决溅射靶材在溅射过程中的微粒飞溅也是今后研究与设计靶材的发展方向之一。一般来说， 粉末冶金工艺制备的溅射靶材大都存在致密度低的问题，容易造成微粒飞溅。因此，对熔融铸造法制备的靶材，合金溅射镀膜靶材多少钱，可采用适当的热加工或热处理来提高其致密度；而对粉末冶金溅射靶材则应提高原料粉末纯度，并采用等离子烧结、微波烧结等快速致密化技术，以降低靶材孔隙率。

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