FE3000反射式膜厚量测仪:主要测试项目：量子效率测定，量子效率的激发波长依赖特性，发光光谱、反射光谱测定，透过、吸收光谱测量，PL激发光谱，FE，颜色演算（色度、色温、演色性等）利用二次激发荧光校正功能去除再激发荧光发光。

解析非线性最i小二乘法/波峰波谷解析法/FFT解析法/最适化法

基板解析/里面反射补正/各类nk解析模型式

绝i对反射率/解析结果Fitting/折射率n的波长相关性/消光系数k的波长相关性

3D显示功能（面内膜厚分布、鸟窥图、等高线、断面图）

本仪器是一套使用积分半球对薄膜状样品或粉状物样品进行量子效率测试的系统。

半积分球。大塚电子独有专利，提高积分球测试效率一倍，更易于样品的装夹，大塚FE3000，切换迅速（世界范围内独i家）；(2)多次激发修正。大塚电子独有专利，最i大程度降低样品所反射的激发光再次照射样品带来的多次激发， 对粉末和固体测试精度提高明显（世界范围内独i家）；(3)光谱可扩展， 光谱探测范围可扩展至1700nm甚至2550nm.(4) 可以升级配备控温系统（-30℃-300℃）

不锈钢样品池及高精度石英材质光学窗口，FE膜厚仪，光学透过率大于98%，全波段无荧光反应，FE-3000，用于固体、粉末及薄膜样品测试（数量5个），尺寸直径≤10mm

产品特点非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。高精度、高再现性量测紫外到近红外波长反射率光谱，分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率、k:消光系数)。

应用范围■ FPD

?LCD、TFT、OLED(有机EL)

■ 半导体、复合半导体

?矽半导体、半导体雷射、强诱电、介电常数材料

■ 资料储存

?DVD、磁头薄膜、磁性材料

■ 光学材料

?滤光片、抗反射膜

■ 平面显示器

?液晶显示器、薄膜电晶体、OLED

■ 薄膜

?AR膜

■ 其它

?建筑用材料

大塚电子公司(图)-3000-FE由大塚电子(苏州）有限公司提供。“电技术的研发,光电系统集成产品,工业测定和分析设备”就选大塚电子(苏州）有限公司（www.otsukael.com.cn），公司位于：苏州工业园区苏州大道西1号世纪金融大厦1幢609，多年来，大塚电子坚持为客户提供好的服务，联系人：曹先生。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。大塚电子期待成为您的长期合作伙伴！