高纯氩气主要用途：用于焊接、不锈钢制造、冶炼，还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气，为了提高硅晶体的质量，如何选用较高纯度的氩气，是制作硅晶体的一个议题。通过本装置对氩气的使用，氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时，水分也小于1ppm时，制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求，赢得客户的满意和市场的需求。由于一般液氩汽化后未经过纯化处理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围，但使用氩气的客户确不知道其质量，所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何，只要经过纯化装置的处理后，进入拉晶炉的氩气，纯度始终是恒定的。一般 O2＜0.2ppm水分＜1ppm，这样稳定的氩气对生产晶体质量是有保证的。 氩气纯化装置是针对需要使用超高纯度氩气的客户而设计的。广泛应用于在金属保护行业、电子、电光源、科研、气体、分析、医学等领域以及光谱仪、气相色谱仪、科学仪器等等已知或未知的宽广领域

装置特点： 

1. 催化剂采用了最先进环保的催化材料。具有吸附深度高，吸收杂质气量大的特点，经催化吸附干燥过滤后使其最终纯度达99.9999%以上。100级的气体出口过滤器使其最终纯气颗粒小于0.1μ，确保气体满足高纯气要求，原位再生功能保证了气体的品质如一，达到了环保节能的最终目的