FT-14--四氟化碳

商品名称:四氟化碳

分 子 式:CF₄

分 子 量:527

含　　量:99.9%, 99.99%, 99.999%

外　　观:无色无臭气体

用　　途:是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合气，可广泛应用于二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、微光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。