分子泵应用于磁控溅射

上海伯东代理德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700 成功应用于宁波某研究所磁控溅射（Megnetron Sputtering）系统.宁波某研究所磁控溅射（Megnetron Sputtering）系统用于光刻胶片上溅金属铬,铜,钛.其中材料生长腔工作真空度要求 < E-7 hPa,能做到4英寸片,3靶位,可实现编程镀膜.材料生长腔对涡轮分子泵的要求较高,老师在考量了德国普发 Pfeiffer Hipace 700 涡轮分子泵和爱德华 Edwards STP603 分子泵后,因为对分子泵的压缩比要求较高,最终选择了德国普发 Pfeiffer 分子泵.

-------宁波某研究所磁控溅射系统加装 Pfeiffer 涡轮分子泵-----

德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700 主要优点：
1.高压缩比 >1x10¹¹
2.使用寿命长
3.涡轮分子泵真空度高且稳定 < E-7 hPa
4.大抽速 (N2) 685 l/s
5.与爱德华 Edwards STP603 相比,更大压缩比,真空度高且更稳定
值得一提的是,德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵广泛应用于国际知名的磁控溅射厂商,如美国 SVTA,芬兰 DCA,北京汇德信等.