GRISHCMP抛光液研磨液

GRISHCMP抛光液研磨液厂家

厂商 :北京国瑞升科技股份有限公司

地址 :北京市 北京市
主营产品 :研磨纸 研磨液 抛光膏 多晶单晶纳米微粉 固态蜡液态蜡 去蜡液助剂
联系电话 :13810957114
商品详情描述
GRISH CMP抛光液均是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品,广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。可生产不同粒度(10~150 nm)的产品满足用户需求。根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。
产品的特点:
    1. 高抛光速率,利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的(可以生产150 nm)
    2. 粒度可控,根据不同需要,可生产不同粒度的产品(10-150 nm)
    3. 高纯度(Cu2+含量小于50 ppb),有效减小对电子类产品的沾污
    4. 高平坦度加工,本品抛光是利用SiO2的胶体粒子,不会对加工件造成物理损伤,达到高平坦化加工
 抛光液基本性质

碱性型号(pH:9.8±0.5)

SOQ-2A

SOQ-4A

SOQ-6A

SOQ-8A

SOQ-10A

SOQ-12D

酸性型号(pH:2.8±0.5)

ASOQ-2A

ASOQ-4A

ASOQ-6A

ASOQ-8A

ASOQ-10A

ASOQ-12D

粒径(nm)

10~30

30~50

50~70

70~90

90~110

110~130

外观

乳白色或半透明液体

比重

1.15±0.05

组成

成份

含量(w%)

SiO2

15~30

Na2O

≤0.3

重金属杂质

≤50 ppb

 
抛光液组成
成份 含量(w%)
SiO2 15~30
Na2O ≤0.3
重金属杂质 ≤50 ppb


CMP抛光液

CMP抛光液2

29104928483

应用范围:
1、硅晶圆片抛光;锗片抛光;砷化镓抛光;磷化铟抛光;光学晶体抛光;蓝宝石衬底抛光;LED衬底抛光;
2、硒化锌抛光;光纤连接器抛光;光纤跳线抛光;玻璃抛光;石英抛光,CMP抛光液;
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去蜡液助剂
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