显影曝光系统是一种用于能源科学技术领域的工艺?相比于其他工艺技术，该套系统具有分辨率高，遂溪摄录机曝光显影加工，重复性好，摄录机曝光显影加工多少钱，图案化丰富等优点，摄录机曝光显影加工哪家好，针对于背接触太阳电池和异质结背接触太阳电池的指交叉图案，可得到优良的工艺效果。显影曝光系统用于背接触太阳电池背面指交叉图案的制备。包含涂胶匀胶、烘烤、单面曝光和显影等功能单元的整套光刻显影曝光系统。


在显影检验工艺，工程师有个判断工艺的性能机会。显影检验步骤的第二个重要性与在检验时作的拒收有关。首先，一部分晶圆会从上一步留下来问题而要停止工艺处理。这些晶圆在显影检验时会被拒绝接受并进行处理。其它在光刻胶上有光刻图案问题的晶圆可被通过去掉光刻胶的办法而进行重新工艺处理。几乎没有工厂不发生这种一般性的重新工艺处理。晶圆被返回掩膜工艺称为重新工艺处理（rework或redo）。


在显影和烘焙之后就是要完成光刻掩膜工艺的质检。适当地来说应叫显影检验（develop inspect）或DI。检验的目的是区分那些有很低可能性通过终掩膜检验的晶圆；提供工艺性能和工艺控制数据；及分拣出需要重做的晶圆。这时的检验良品率，也就是通过这个质检的晶圆数量，不会计入终良品率的计算。但是有两个主要原因使之成为很受关注的良品率。


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