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商品详情描述
MYCRO的 NRIE-4000反应离子刻蚀机是一个单独的反应离子刻蚀(RIE)系统，带有shower-head气体分布和水冷却射频滚筒，各向异向刻蚀。全自动化控制，数字化参数界面和自动化操作方式，使工艺的重复性、稳定性、可靠性得到有效保证，为用户提供了优良的研发和生产平台。
应用领域：
主要用于微电子、光电子、通讯、微机械等领域的器件研发和制造。刻蚀材料包括硅化合物和金属材质（Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs、 Au、 Pt、Ti、 Ni等）。
产品特点：
NRIE-4000反应离子刻蚀机通过物理与化学相结合的方法，进行刻蚀以形成的图形，具有选择比较好、刻蚀速度快、重复性好、性价比较高等特点。
该系统通过对真空系统、工作压强、射频电源匹配、气体流量及工艺过程的全自动控制，使工艺的重复性、稳定性、可靠性得到有效保证，从而获得较高的刻蚀速率，并能精确地控制图形的剖面，数字化参数界面和自动化操作方式为用户提供了优良的研发和生产平台。
技术参数：
型号：NRIE-4000
RF电源：600 W， 13.5 MHz
真空系统：250L/s, 防腐蚀油泵, 带节流阀装置
刻蚀速率：40nm/min（与刻蚀材料和工艺有关）
刻蚀材料：硅化合物和金属材质（Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs、 Au、 Pt、Ti、 Ni等）
材料尺寸：最大可到8英寸
控制方式：全自动化
反应仓材质：铝(Al),不锈钢
电极尺寸：ø200mm
需要更详细的MYCRO反应离子刻蚀机产品资料，
请与迈可诺技术有限公司中国营销服务中心区域办公室联系!
010-52914751 / 400-6800-397转813（北京）
021-33197367 / 400-6800-397转823（上海）
020-85583301 / 400-6800-397转833（广州）
027-87163162 / 400-6800-397转843（武汉）
Email: sales@mycro.com.cn website: http://www.mycro.com.cn
客服热线：400-8800-298
应用领域：
主要用于微电子、光电子、通讯、微机械等领域的器件研发和制造。刻蚀材料包括硅化合物和金属材质（Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs、 Au、 Pt、Ti、 Ni等）。
产品特点：
NRIE-4000反应离子刻蚀机通过物理与化学相结合的方法，进行刻蚀以形成的图形，具有选择比较好、刻蚀速度快、重复性好、性价比较高等特点。
该系统通过对真空系统、工作压强、射频电源匹配、气体流量及工艺过程的全自动控制，使工艺的重复性、稳定性、可靠性得到有效保证，从而获得较高的刻蚀速率，并能精确地控制图形的剖面，数字化参数界面和自动化操作方式为用户提供了优良的研发和生产平台。
技术参数：
型号：NRIE-4000
RF电源：600 W， 13.5 MHz
真空系统：250L/s, 防腐蚀油泵, 带节流阀装置
刻蚀速率：40nm/min（与刻蚀材料和工艺有关）
刻蚀材料：硅化合物和金属材质（Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs、 Au、 Pt、Ti、 Ni等）
材料尺寸：最大可到8英寸
控制方式：全自动化
反应仓材质：铝(Al),不锈钢
电极尺寸：ø200mm
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