该产品采用胶体氧化硅为主要原料，在严格控制粒径、改善粒子表面特性和利用化学增强抛光原理的基础上所开发的适合蓝宝石稳定抛光的一款新产品；该产品悬浮体系稳定，抛光后工件表面质量稳定，粗糙度低，进而全面提升产品表面质量，降低总体生产成本。该抛光液使用简便、抛光表面易清洗、无抛光设备腐蚀、在抛光机以及抛光垫上沉积较少，广泛应用于LED蓝宝石衬底及窗口蓝宝石片的抛光。

产品特点：

l 颗粒分散均匀，不团聚，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷；

l 颗粒粒径分布适中，最大程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度；

l 运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量；

l 使用过程无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。

用途
　　主要用于LED蓝宝石衬底片背面减薄，碳化硅晶片，碳化镓晶片、精密陶瓷、精度模具及半导体化合物晶片等表面研磨抛光。

使用建议：

l 开桶后需充分搅拌均匀,然后根据要求稀释后使用;

l 现场需保持清洁无扬尘，防止抛光液配制和使用过程遭到污染；

l 循环使用粘度增大时,应予以重新配制新的抛光液，以免损伤工件，降低良率。