真空腔室

L400×W400×H450，前后开门结构，SUS304不锈钢材质

真空系统

复合分子泵+直联旋片泵，超高真空插板阀，“两低一高”数显复合真空计

极限真空

优于5.0×10-5Pa(如需获得更高的真空度可选择进口真空泵组)

基片台

基片台直径≤120mm；基片台加热：室温～300℃；基片台旋转及光控定位

蒸发源

6组蒸发源（舟式源或挂丝源，兼容有机材蒸发）

膜厚控制

掩膜及膜厚控制系统：定制掩膜机构

采用晶振膜厚仪在线监测、控制膜厚

手套箱系统

手套箱箱体尺寸：大箱体L1800/1200×W750×H900mm

箱体泄露率<0.05vol%/h，标准环境箱体内水、氧指标<1ppm

控制方式

镀膜系统采用手动或PLC触摸屏控制，手套箱系统采用PLC+触摸屏控制

报警及保护系统

对泵、电极等缺水，过流过压，断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统