HMDS*空镀膜机，无尘HMDS烤箱概述

   HMDS预处理系统通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。适用于硅片、*化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料预处理及相关行业。

HMDS*空镀膜机，无尘HMDS烤箱特点

? 预处理性能更好：

? 处理更加均匀：

? 效率高：

? 更加节省药液：

? 更加环保和*：

? 自动吸取HMDS：

? 可自动添加HMDS：

? HMDS气体管路加热系统：

? 参数记录功能：

? 温度与程序互锁功能：

HMDS*空镀膜机，无尘HMDS烤箱的必要性

   HMDS蒸镀就是利用惰性气体（例如氮气）带着HMDS的蒸汽通过芯片表面，而在芯片表面形成一层薄膜。其目的在于：A.*芯片表面的微量水分。B.防止空气中的水汽再次吸附于晶面C.增加光阻剂（尤其是正光阻）对于晶面的附着能力，进而减少在此后之显影过程中产生掀起，或是在蚀刻时产生了“Undercutting”的现象。目前在规范中规定于HMDS蒸镀完4小时内需上光阻以确保其功能。

   将HMDS涂到半导体制造中硅片、*化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可*好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

HMDS*空镀膜机，无尘HMDS烤箱技术参数

? 材质：外箱采用不锈钢或优质冷轧板喷塑，内箱采用316L医用级不锈钢

? 温度范围：RT+10-250℃

? 温度分辨率：0.1℃

? 温度波动度：≤±0.5

? *空度：≤133pa（1torr）

? 洁净度：class 100，设备采用无尘材料，适用100级光刻间净化环境

? *空泵: 旋片式油泵或无