Introduction to PVD Technology

       真空鍍膜是在真空中把真空中的鈦，金，石墨，水晶之類的金屬或非金屬，氣體等材料利用溅射，蒸發，等離子體等技術，在基材上開成薄膜的一種表面處理過程。與傳統化學鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多的优點：如對環境無汚染，是綠色環保工藝，對操作者無傷害，鍍層牢固，膜層致密性好，均勻抗腐蝕性強及耐磨性高！

       真空鍍膜技術中經常使用的方法主要有：蒸發鍍膜（包括電弧蒸發，電子槍蒸發，電阻絲蒸發等）；溅射鍍膜（包括直流磁控溅射，中頻磁溅射，射頻溅射等技術），這些方法統稱為物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition),簡稱PVD 。與之相對應的化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition)  簡稱為 CVD 技術。