| 研创新材高纯硅 靶材 硅颗粒 硅块 硅粉（Si） | ||
| 物理性质 | 颜色 | 银白色 晶体 |
| 密度 | 2.33g/cm3 | |
| 熔点 | 1414℃ | |
| 技术指标 | 纯度 | 99.999%-99.9999%（5N-6N) |
| 致密度 | >99% | |
| 切面平整度 | 优 | |
| 公差 | ±0.1mm | |
| 晶粒度 | 均匀 | |
| 材质 | Si | |
| 品牌 | YC | |
| 产地 | 山东 | |
| 产品规格 | 圆靶：max直径350mm，厚度4000mm 方靶：max长度1500mm，宽度300mm 可根据用户需要进行定制 | |
| 制作工艺 | 单晶硅生长 | |
| 适用仪器 | 磁控溅射 | |
| 产品用途 | 电子工业和太阳能发电工业的基础材料 | |
| 产品优点 | 1：不纯物元素含量极低 2：典型的半导体，化学性质非常稳定 | |
临沂研创新材料科技有限公司长期为你供应高纯硅靶，高纯溅射硅靶材，高纯硅相关产品，产品详情如下：
1、高纯硅靶的纯度为99.9%，99.99%，99.999%、99.9999%等.
2、高纯单晶硅片，高纯多晶硅片。常用尺寸170*85.5*9等。
3、高纯硅靶的常用规格：板靶：70*25.9*6等。
4、高纯硅粉：-200-500目，-325目，等。
5、高纯硅颗粒：1-5mm,200#,5-10mm等。
6、高纯单晶硅靶，高纯多晶硅靶。
7、相关参数：密度：2.42熔点：1410折射率：3.42。
8、临沂研创新材料科技有限公司其它高纯溅射靶材 蒸发镀膜熔炼添加产品：
各种高纯金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、镀膜材料。金属靶材：铝靶Al、银靶Ag、钴靶Co、铬靶Cr、铜靶Cu、镍靶Ni、钛靶Ti、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、锡靶Sn、铟靶In、铁靶Fe、锆铝靶Zr、钛铝靶Ti、锆靶Zr、钽靶Ta、锗靶Ge、硅靶Si、钨靶W、铪靶Hf、钆靶Gd、钐靶Sm、镝靶Dy、铈靶Ce、钇靶Y、镧靶La 金靶Au 等。
合金靶材：钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝 V-Al 、铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。
陶瓷靶材 ??ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶，五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、等陶瓷靶材。产品通过各种方法（磁控溅射、真空镀等）应用真空镀膜的各种领域：科学研究，航天航空，汽车，微电子，集成电路产业，光源，光学，装饰，平面显示器产业，信息存储产业，数据存储等等。
注所有产品规格可根据客户要求定做。
标签：
