专门为精密光学薄膜器件镀膜生产而设计，各系统单元和总体结构很好地满足了光学薄膜生产工艺的要求，适用于增透膜、带通膜和截止膜等各种膜系的镀制。

 

【基本参数】

 

（1）极限真空：3×10-4Pa

 

（2）恢复真空时间：大气至4×10-3Pa≤15min

 

（3）采用KT-630型扩散泵（18000L／s）两台（带移相温度控制），HGL－150型滑阀泵一台＋ZJP-600罗茨泵一台，维持泵2X－30型机械泵（30L／s）一台；配备防湍流装置

 

（4）真空程序有自动和手动两种模式。日本欧姆龙型PLC控制所有泵阀动作；高阀、低阀、预阀，到位信号送入PLC控制信号；PLC程序带故障报警功能，如气压、水流、机械泵等保护及报警；12英寸触摸屏在线监控PLC各种输入及输出信号。

 

（5）工件转动：采用磁流体密封转动装置，其它地方采用传统的橡胶圈密封

 

（6）工件烘烤：桶状上烘烤，三点控温，加热器采用管状加热器，配温控仪

 

（7）E型电子两支，功率10KW／支；束偏转角270°；阳极电压为8KV、10KV；束流：0－1000mA可调；具有X、Y方向扫描，扫描波形有三角波、正弦波、矩形波可选择，电子主体有屏罩，电子输出功率稳定。

 

（8）配备美国MAXTEK公司的MDC360C型石英晶体膜厚仪。

 

（9）Φ16CM的离子源

 

（10）12英寸的触摸屏，可编程控制器（PLC）中央控制方式及其相关电气控制单元对设备真空系统、蒸发源系统、烘烤系统、工件转动系统、膜厚监控系统等进行监测和控制

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