氧化钛靶主要应用于太阳能光伏和光热靶材。近年来，国内的靶材制造商的设备和技术都得到较大的升级，部分靶材供应商接近国外进口靶材的品质。磁控溅射技术是目前重要的工业化大面积真空镀膜技术。它相比其他溅射镀膜，具有高速、低温、低损伤等优点。 ? 磁控溅射技术由于其显著的优点成为工业镀膜主要技术之一，改进靶的设计进一步提高靶材利用率及镀膜均匀性，降低镀膜成本也是现在镀膜技术亟须解决的关键问题之一。 以下介绍磁控溅射靶材里面重要的一款：旋转氧化钛靶 Rotatable TiOx target 1. 产品用途（Application） 用于制作TiO2膜，主要用于光学玻璃AR膜系，Low-E玻璃膜系。 2. 产品化学成分和物理性能（Physical and Chemical Properties ） 化学式( Chemical Coition) ：TiOx （x<2) 电阻率（Resistivity） （20°C）：< 0.1 ohm. cm 成型工艺（Molding Process）：热喷涂（HPS） 密度(Density ): >4.0 g/cm3（>95%） 纯度(Purity): > 99.6%