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产品特性：用于多硅材料洗洗、拉单晶硅冲洗、切片冲洗、电池片用高纯水设备/超纯水处理设备
装置系统。出水水质可达到国家电子行业标准。半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度
线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、
超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把
电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ
.cm，以区分不同水质。
EDI高纯水/超纯水制取方法的先进性：在传统的水处理系统中可替代现有的混床，它能够连续稳
定地制出高纯度的水。EDI的最大优点在于不用化学药剂进行再生，因而不需要化学再生药剂贮存
罐及相应的中和池，而且无须对有害的化学废水进行收集、贮存及处理，结果使EDI大大的简化了
系统。
RO的应用降低了对大型设备间的要求，而最近的EDI技术则完全地排除了这一点。由于EDI系统仅
要求天花板的高度不超过18英尺（5.49米），即在通常的设备间内无高罐存在，在要求成套设备
迅速地安装起来以投入运行时，对高度规格无特别的要求是极为重要的。
还有一个优点是，EDI排出的浓水中仅含有进水中的杂质成分，通常这种水的水质比预处理系统的
进水水质要好，故浓水可以直接地排至RO的入口，这样就有效地消除了对废水的排放。相反，混床
的再生是一个一次性的过程，由于使用化学药剂再生树脂床，其废液中含有比一般EDI浓水高3－4
倍的废弃离子，这类废液通常不回收到预处理系统中，而是排放于废水中和池内。
RO－EDI的运行过程是连续的，其生产的水质稳定，它不象混床在每一个再生周期的开始及结束阶
段因离子的泄漏而影响出水水质。这种连续运行的方式也简化了操作，无需设置与循环的再生工作
相关的操作人员及操作程序。
EDI纯水装置优势
1.占地空间小，省略了混床和再生装置；
2.产水连续稳定，出水质量高，而混床在树脂临近失效时水质会变差；
3.运行费用低，再生只耗电，不用酸碱，节省材料费用；
4.环保效益显著，增加了操作的安全性。
我公司生产高纯水设备应用领域
1、电厂化学水处理
2、电子、半导体、精密机械行业超纯水
3、食品、饮料、饮用水的制备
4、小型纯水站，团体饮用纯水
5、精细化工、精尖学科用水
6、其他行业所需的高纯水制备
7、制药工业工艺用水
8、海水、苦咸水的淡化。
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质保期：我方所提供的设备的质保期为设备正式投入使用后12个月或设备到货后14个月，以先到为准。在质保期内，非人为或操作失误引起的设备故障，我方实行三包，即包退、包换、包修，包修期内无偿服务。质保期过后三年内无偿提供技术服务，设备的维修只收取材料、零备件的成本费。
终身维修：我方可按国际惯例与买方签订设备终生保养、维修协议。对设备进行终生保修，可免去用户自己储存大量零、配件或由于保养，维修经验不足造成的设备停运，甚至损坏。
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