纳米二氧化硅抛光液由高纯纳米二氧化硅等多种复合材料配置而成，通过高科技术分散成纳米颗粒，分散均匀的纳米抛光液，具有高强度、高附着力、成膜性好、高渗透、高耐候性、高耐磨性等特点，是一种性能优良的CM P技术用的抛光材料.
技术指标：

纳米二氧化硅抛光液应用特性：
1、抛光速率快，利用分散均匀大粒径的胶体二氧化硅等粒子达到高速抛光的目的
2、高纯度，抛光液不腐蚀设备，使用的性能高。
3、高平坦度加工，本品抛光是利用SiO2等材料的均匀纳米粒子，不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工
4、有效有效减少抛光后的表面划伤，降低抛光后的表面粗糙度。 
应用范围： 
1、可用于微晶玻璃的表面抛光加工中。
2、用于硅片的粗抛和精抛以及IC加工过程，适用于大规模集成电路多层化薄膜的平坦化加工。
3、用于晶圆的后道ＣＭＰ清洗等半导体器件的加工过程、平面显示器、多晶化模组、微电机系统、光导摄像管等的加工过程。
4、广泛用于CMP化学机械抛光，如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、硬盘盘片、宝石、大理石等纳米级及亚纳米级抛光加工。
    5、本产品可以作为一种添加剂，也可应用于水性高耐候石材保护液、水性胶粘剂与高耐候外墙涂料等领域。
纳米二氧化硅抛光液使用注意事项：
1、  本品放置时间长后，若有少量沉淀属于正常现象，用搅拌机搅拌均匀不影响使用。
2、如有产品变稠现象，是二氧化硅本身的特性，可以按照与水1:1的比例稀释，搅拌均匀后再使用。
3、密闭，干燥阴凉处储存，避免太阳直射。