我司是专门从事光电新材料研发、生產与全球销售為一体的高科技综合性公司。由专家带领著一支高素质的研发团队和经验丰富的管理人员组成，并与上海各高校及海外公司有著多年的技术和人才合作。我司主要通过氧气充足烧结方法、热等静压方法、真空熔炼等方法成型，其中氧气充足烧结方法在国内处於领先技术，根据客户的具体要求加工各种材质，各种规格的镀膜材料，并為客户提供技术上的服务与支援。本公司生產的真空溅射靶材及光学镀膜材料主要应用於：半导体晶片、装饰和功能镀膜工业、太阳能电池板、据储存工业（光碟工业）、平板液晶显示器（LCD）、光通讯工业、玻璃镀膜（建筑玻璃和汽车玻璃）工业、抗腐蚀抗磨损（表面改性）等行业，品质达到国际先进水平，填补了我国靶材在制造领域应用的空白。

一 高纯单质金属（纯度：3N-6N）

规格：粉末/颗粒/锭/丝/圆片/方形靶材（长度小于1000mm.宽度小于320mm,厚度大于1mm）/圆柱形靶材（直径小于400mm,厚度大于1mm）

金靶Au，银靶Ag，铝靶Ag，硼靶B，铋靶Bi，碳靶C，铬靶Cr，铜靶Cu，钴靶Co，Cd靶，铈靶Ce，镝靶Dy，铒靶Er，铕靶Eu，铁靶Fe，钆靶Gd，锗靶Ge，铪靶Hf，铟靶In，铱靶Ir，镧靶La，镥靶Lu，镁靶Mg，钼靶Mo，锰靶Mn，铌靶Nb，镍靶Ni，铅靶Pb，钯靶Pd，铂靶Pt，铼靶Re，铑靶Rh，钌靶Ru，锑靶Sb，钪靶Sc，硒靶Se，硅靶Si，钐靶Sm，锡靶Sn，钽靶Ta，铽靶Tb，碲靶Te，钛靶Ti，钒靶V，钇靶Y，镱靶Yb，锌靶Zn，锆靶Zr。