1.高纯氧化物薄膜材料（溅射靶材、颗粒、压片）
氧化物
OXIDE
一氧化硅SiO
二氧化铪HfO2
二氧化锆ZrO2
二氧化钛TiO2
一氧化钛TiO
二氧化硅SiO2
三氧化二钪Sc2O3
三氧化二钛Ti2O3
三氧化二铝Al2O3
五氧化二铌Nb2O5
五氧化二钽Ta2O5
五氧化三钛Ti3O5
三氧化二铟In2O3
二氧化铈CeO2
氧化镁MgO
氧化镨Pr6O11
三氧化钨WO3
氧化钐Sm2O3
氧化钕Nd2O3
氧化铋Bi2O3
氧化锑Sb2O3
氧化钒V2O5
氧化镍NiO
氧化锌ZnO
氧化铁Fe2O3
氧化铬Cr2O3
氧化铜CuO
 
2.高纯氟化物薄膜材料（颗粒、压片）
氟化物
FLUORIDE
氟化镁MgF2
氟化镱YbF3
氟化钇YF3
氟化镝DyF3
氟化钕NdF3
氟化铒ErF3
氟化钾KF
氟化锶SrF2
氟化钐SmF3
氟化钠NaF
氟化钡BaF2
氟化铈CeF3
3. 特种薄膜材料（溅射靶材、颗粒）——应用太阳能、半导体、磁性元件等，热压、热等静压粉末冶金溅射靶材
SrAl2O4
SrAlO4
SrHfO3
SrPrO3
SrZrHfO3
L5
ATO-HP or CIP
AZO-HP or CIP
钛酸镧LaTiO3
钛酸钡BaTiO3
钛酸锶SrTiO3
钛酸镨PrTiO3
冰晶石Na3AlF6
锥冰晶石Na5Al3F14
二钛酸镨Pr(TiO3)2
硫化锌ZnS
硫化镉CdS-HP
碲化镉CdTe-HP
铜铟镓硒CIGS-HP
锗锑碲GST-HP
硅钼合金MoSi-HP
二硫化钼MoS2-HP
二硫化钨WS2-HP
硅钛合金SiTi-HP
钨钛合金WTi-HP
硅铝合金SiAl-HP
钼铬合金 MoCr-HP
铝铬合金AlCr-HP
粉末冶金靶材种类繁多，以上列出有代表性材料，可根据要求定做。
4.高纯金属及合金材料（溅射靶材、颗粒）
铪靶Hf
锆靶Zr
钛靶Ti
铝靶Al
铬靶Cr
镁靶Mg
铜靶Cu
铁靶Fe
铌靶Nb
锡靶Sn
钨靶W
钽靶Ta
钼靶Mo
镍靶Ni
钴靶Co
钒靶V
铽靶Tb
钆靶Gd
镧靶La
铈靶Ce
钕靶Nd
镨靶Pr
金靶Au
银靶Ag
铂靶Pt
镍铬合金NiCr
镍钒合金NiV
锆钛合金ZrTi
铌锆合金NbZr
锌镉合金ZnCd