二氧化硅靶
化学符号:SiO2
纯度:99.99%
熔点:1610℃
密度:2.2g/cm?
规格:Φ10mm
折射率:n≈1.45
透明波段:0.2~9Ц(30~100Ц)
外观:白色
性能:容易蒸发,放气量小。
价格:700元kg 粒状晶体SiO2 650元kg
最少起订量:1kg,量大优惠
供货能力:同批次,同材质,持续可靠供应;100kg/月
交货期:单片材料1周内发货,批量材料15天-20天内发货(工作日)
制作工艺:真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工
适用仪器:各类型号磁控溅射设备等
产品优点:1、质量可靠,价格优惠2、真空熔炼,设备提纯,纯度高,杂质少3、.轧制致密,氧化少,成型可塑4、相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高
产品附件:正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票
包装方式:真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装
运输方式:国内快递承运(顺丰,申通,EMS,德邦)
常规靶材生产工艺为:铸锭(感应电溶解电子束熔炼法连续铸造)→→成型(锻造→热轧或
冷轧→拉伸)→→热处理(均质化,再烧结)→→精密机械加工(切削,铣,车,磨,刨)
→→与背板结合(软焊,扩散焊)→→检测(超声波,X光射线探伤)→→包装运输
薄膜材料是指通过对其进行热、电子枪蒸发或磁控溅射得到薄膜的一种功能材料。主要产品应用于半导体制造、磁记录、平面显示和太阳能等产业领域,以下产品我们能提供的常规规格为1mm-10mm颗粒,压片或者粉末,或者各种规格靶材。 |
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名称 |
化学符号 |
熔点/℃ |
蒸发温度/℃ |
蒸发方法 |
密度/(g/cm3) |
折射率 对应波长/μm |
透明区/μm |
膜结构 |
机械化学性 |
备注 |
SiO2 |
氧化硅 |
1700 |
1600 |
电子束、充氧反应蒸发 |
2.1(石英玻璃)2.65(石英晶体) |
1.520 0..248 |
0.2~9 |
无定形P=0.9(30℃) P=0.98(150℃) |
硬,不吸湿,溶于HF |
用于镀制单层及多层膜 |
1.45~1.46 0.55 |
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1.445 1.6 |
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1.44 2 |