二氧化硅靶

二氧化硅靶厂家

厂商 :北京冠金利新材料有限公司

地址 :北京 北京
主营产品 :高纯陶瓷靶材 高纯镀膜材料 高纯金属靶材 高纯金属单质 高纯纳米粉末 高纯稀土靶材 高纯合金靶材 高纯合金材料
联系电话 :13501344331
商品详情描述

二氧化硅靶

化学符号:SiO2                      

纯度:99.99%

熔点:1610℃                    

密度:2.2g/cm?

规格:Φ10mm                   

折射率:n1.45                 

透明波段:0.2~9Ц(30~100Ц)        

外观:白色

性能:容易蒸发,放气量小。

价格:700kg  粒状晶体SiO2  650kg

最少起订量:1kg,量大优惠

供货能力:同批次,同材质,持续可靠供应;100kg/

交货期:单片材料1周内发货,批量材料15-20天内发货(工作日)

制作工艺:真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工

适用仪器:各类型号磁控溅射设备等

产品优点:1、质量可靠,价格优惠2、真空熔炼,设备提纯,纯度高,杂质少3.轧制致密,氧化少,成型可塑4、相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高

产品附件:正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票

包装方式:真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装

运输方式:国内快递承运(顺丰,申通,EMS,德邦

常规靶材生产工艺为:铸锭(感应电溶解电子束熔炼法连续铸造)→→成型(锻造→热轧或

冷轧→拉伸)→→热处理(均质化,再烧结)→→精密机械加工(切削,铣,车,磨,刨)

→→与背板结合(软焊,扩散焊)→→检测(超声波,X光射线探伤)→→包装运输

薄膜材料是指通过对其进行热、电子枪蒸发或磁控溅射得到薄膜的一种功能材料。主要产品应用于半导体制造、磁记录、平面显示和太阳能等产业领域,以下产品我们能提供的常规规格为1mm-10mm颗粒,压片或者粉末,或者各种规格靶材。

名称

化学符号

熔点/℃

蒸发温度/

蒸发方法

密度/g/cm3

折射率  对应波长/μm

透明区/μm

膜结构

机械化学性

备注

SiO2

氧化硅

1700

1600

电子束、充氧反应蒸发

2.1(石英玻璃)2.65(石英晶体)

1.520     0..248

0.2~9

无定形P=0.9(30℃) P=0.98(150℃)

硬,不吸湿,溶于HF

用于镀制单层及多层膜

1.45~1.46   0.55

1.445       1.6 

1.44         2

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