摄像头模组主要由镜头、传感器、后端图像处理芯片、软板四个部分组成。模组是影像捕捉至关重要的电子器件，器件的洁净决定了模组使用的效果。在生产装置过程中对元件清洁方面的要求很高。为此，我们利用超声波清洗技术，去除元件表面的污物，有效提高元件的使用效果。该款模组清洗剂主要适用于镜头、传感器、处理芯片的清洗，有效的满足了广大摄像头生产商对摄像头高品质、高合格率的要求，提升了摄像头模组的生产效能。适用于低端、中端、高端像素都适用，全部采用水洗过程，不会损伤芯片及线路，清洗良率可达99%。 G-201清洗剂是选用优良的表面活性剂、助洗剂和有效的缓蚀剂经科学方法复合配制而成的液体状清洗剂。本产品已通过SGS环保ROHS认证，具有无毒、环保、节能、清洗效率高等优秀性 适用于摄像头模组芯片加工中感光芯片的清洗，能有效清除晶片表面残留的静电、污垢及金属离子、灰尘等污染物。广泛用于摄像头芯片行业的清洗。 项 目 指 数 值 型 号 G-201 外 观 浅黄色透明液体 PH值 11.22±1（1%水溶液） 密 度 1.10±0.05g/ml 清 洗 率 ≥99% 漂洗性 显微镜下无可见清洗剂残留 1、使用方法：采用超声波进行3-4min清洗。 2、清洗流程：药水→药水→喷淋→纯水→纯水→纯水→慢拉→烘干 3、使用浓度：4-8%（即4-8份清洗剂配96-92份水，视污垢轻重而定）。 4、使用温度：45℃—55℃最佳使用温度52℃。 5、使用周期：视污垢轻重程度和使用情况而定，一般以清洗污能力显着下降时补充、更换清洗剂。光学清洗应每24H更换一次洗液和纯水。

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