磁控溅射-3合

北京泰科诺科技15年真空行业经验，蒸发类产品市场占有率达80%；985，211高校实验室全覆盖，专为各大高校，科研院所和生产企业服务；拥有独立研发实验室和完善售后服务系统，支持售前试样服务；产品通过ISO9000、CE等多项认证，获得10多项国家专利。

公司成立于2003年，目前有逾1000台设备运转，产品遍布全国各地（含港澳台），远销至美国、澳大利亚、土耳其、马来西亚等国，深受用户好评。主要包含热蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜设备、电子束蒸发镀膜机、多弧离子溅射镀膜机、热丝CVD设备、装饰镀膜机、DLC硬质涂层设备等等。

磁控溅射镀膜机 Magnetron Sputtering Equipment

技术参数 Technical Parameters：

1.型号Model:                            JCP200/JCP350/JCP500/JCPS400/JCPY500

2.腔室结构 Chamber Structure:   立式上开盖/立式前开门

3.腔室尺寸Chamber Size:            Φ210×H310mm/Φ350×H350mm/Φ500×H420mm

4.加热温度 Baking Temp:            室温～500℃

5.旋转基片台 Rotating Substrate Holder:           Φ100mm/120mm/150mm

6.溅射方式 Sputtering Path:                            向上溅射/上下溅射可选

7.膜厚不均匀性 Film Thickness Nonuniformity:     Φ50/75/100mm范围内≤±5.0%

8.溅射靶/蒸发电极Sputtering Gun/Evaporation Electrode:   Φ2英寸磁控靶1支，预留1组蒸发电极接口/

9.Φ2英寸磁控靶2支，预留1个靶位/Φ2、Φ3、Φ4英寸磁控靶2-4支(可选)

10.工艺气体 Process Gas：      1-2/2~3路气体流量控制

11.控制方式Operation Method:    PLC控制/工控机全自动控制(可选)

12.功率 Power:                       ≥7kW/≥10kW/≥15kW

13.其他选配 Other Options:      溅射电源/膜厚仪/冷水机/等

产品特点Product Features：

1. 工艺成熟，性能稳定，使用维护成本低；

2. 功能强大，可实现单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等；

3. 选择多样化，可单独、与手套箱集成、带进样室使用；

4. 适用范围：制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等；镀膜示例：银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等。

适用：大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。

知识分享：

磁控溅射镀膜设备技术的特点

(1)工件变形小 由于工件表面均匀覆盖辉光，温度一致性好，可以通过控制功率输出来实现均匀升温。另外阴极溅射抵消了渗人元素引起的尺寸扩一大

(2) 渗层的组织和结构易于控制 通过调整工艺参数，可得到单相或多相的渗层组织

(3)工件无须附加清理 阴极溅射可以有效去除氧化膜，净化工件表面，同时真空处理无新生氧化膜，这些都减少了附加设备和工时，降低了成本。

(4) 防渗方便 不需渗的地方可简单地遮蔽起来，对环境无公害，无污染，劳动条件好。

(5) 经济效益高，能耗小 虽然初始设备投资较大，但工艺成本极低，是一种廉价的工程技术方法。此外，离子轰击渗扩技术易实现工艺过程或渗层质量的计算机控制，质量重复性好，可操作性强。

磁控镀膜设备

磁控溅射镀膜机技术原理

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

磁控镀膜设备

真空磁控溅射镀膜技术是通过真空磁控溅射镀膜机实现的，镀膜机内由不同级别的真空泵抽气，在系统内营造出一个镀膜所需的真空环境，真空度要达到镀膜所需的本底真空，一般在（1~5）×10-8 Pa。在真空环境中向靶材（阴极）下充入工艺气体气（Ar），气在外加电场（由直流或交流电源产生）作用下发生电离生成离子（Ar+），同时在电场E的作用下，离子加速飞向阴极靶并以高能量轰击靶表面，使靶材产生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子（或分子）沉积在PET基片上形成薄膜。同时被溅射出的二次电子在阴极暗区被加速，在飞向基片的过程中，落入设定的正交电磁场的电子阱中，直接被磁场的洛伦兹力束缚，使其在磁场B的洛伦兹力作用下，以旋轮线和螺旋线的复合形式在靶表面附近作回旋运动。电子e的运动被电磁场束缚在靠近靶表面的等离子区域内，使其到达阳极前的行程大大增长，大大增加碰撞电离几率，使得该区域内气体原子的离化率增加，轰击靶材的高能Ar+离子增多，从而实现了磁控溅射高速沉积的特点。在运用该机理开发磁控膜的过程中，要注意以下几个问题：①保证整体工艺中各个环节的可靠性。具体包括靶材质量、工艺气体纯度、原膜洁净程度、原膜质量等基础因素，这一系列因素会对镀膜产品的最终质量产生影响。②选择合适的靶材。要建立的膜系是通过对阴极的前后顺序布置实现的。③控制好各环节的工艺性能及参数。如适合的本底真空度、靶材适用的溅射功率、工艺气体和反应气体用量与输入均匀性、膜层厚度等。总之，只有控制好以上各因素，才能够保证所开发的镀膜PET具有稳定的颜色、优异的性能和耐久性。

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磁控溅射镀膜机

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

磁控镀膜设备

目前国内窗膜行业的批发商及终端店很多人都吃过磁控镀银膜氧化的亏，产品卖出后几个月，开始大面积氧化，需要赔偿，甚至还失去了客户。特别是NSN系列在13、14年出的问题特别多，搞得很多人谈磁控膜色变的地步。而在15、16年后，问题得到解决。慢慢地就没多少氧化问题出现了。这也让很多刚接触磁控膜的人以为磁控膜都是镀银的膜，一说磁控膜就问会不会氧化。其实大可不必担心，大部分的侧档都不是银的，请放心使用。且这两年的技术进步，国内各磁控工厂也找到了解决氧化的方法。其实在玻璃镀膜行业，早就解决了氧化问题，我记得早期的low-e玻璃在镀膜后必须在24小时内合成中空，不然就会氧化。当时low-e与中空都是镀膜厂做的，下边玻璃加工厂根本无法介入，而现在镀膜厂只需生产玻璃镀膜原片。且玻璃原片爆露在空气中可达6个月以上，磁控镀膜设备生产厂，都不会氧化。这样中空玻璃，一些门窗厂，幕墙公司、小规模的玻璃深加工工厂，都可以生产low-e中空玻璃了，加上政府政策的支持与引导，磁控镀膜设备生产，大大的加快了low-e玻璃的发展与普及。做窗膜磁控溅射镀膜的应多去看看玻璃行业的low-e镀膜，多些交流。毕竟生产原理是一样的东西，技术是相通的。很多东西是可以套用的，low-e镀膜得到了规模化的发展，技术工艺已非常成熟了。窗膜磁控溅射镀膜最终是要与玻璃配套的，如何与玻璃上直接镀膜做差异化发展，才是正道。就目前来说，仅从隔热性能、保温性能上与玻璃对抗，磁控镀膜设备，是不可能有成本上优势的。但都是镀膜，如何做差异化，我目前也只是抛砖引玉，只有大家一起开动脑袋了。

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