真空镀膜机的真空室该如何设计呢?

真空镀膜机相比大家都存有疑惑，今天来讨论一下的是关于真空镀膜设备真空室的设计问题，要是您有兴趣了解的话可以和宝瑞钛金一起来看看下面的内容。

真空镀膜技术是在真空条件下采用物理或者化学方法，使物体表面获取所需膜体，真空镀膜技术根据其采用方法的不同科分成蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积以及分子束外延等，这次分析的镀膜设备采用的是磁控溅射镀膜。

真空室是真空设备的一个主要组成部位，真空镀膜设备真空室设计主要考虑的就是密封性和可靠性，结构必须要合理，真空设备的材料生产都是在真空室内进行的，材料对真空度的影响要小，设计不能马虎，要注意一些问题。

装饰性真空镀膜设备涂层的作用和要求装饰性真空镀的涂层一般分为底涂层和面涂层两种。为了满足产品的不同技术要求，可施涂底涂层和面涂层，或在面涂层上再施涂彩色涂层、保护涂层等。这些涂层的主要作用是：提高膜层的结合力。采用相同的镀膜方法，在塑料基体上施涂底涂层再真空镀膜，可提高膜层的结合力。降低镀件表面的粗糙度，提高光亮度。一般镀件表面都存在微观不平整度，不一定厚度涂料的整平性，可以填补镀件表面的缺陷，使镀件表面达镜面平整度。能保护金属膜层。真空镀膜层一般只有100nm，膜层的耐磨性和抗变色能力较差，施涂面涂层后，镀膜层与外界不直接接触，对镀膜层能起保护作用。

柔性电子卷绕真空镀膜设备

HCFLC系列卷绕镀膜设备为各种各样的柔性和可穿戴电子产品，传感器，RFID标签，智能玻璃，智能包装等提供了一种非常有竞争力和成本效益高的薄膜涂层技术。高质量低电阻率铜或TCO层和结构的应用，在满足当今和未来市场需求的同时，成功地弥合了生产率和多功能性之间的差距。

HCFLC系列是生产和研发的良好选择。几乎无限的可能性，在安排多达六组可旋转的旋转器和机器的能力，应用大量的现场测量传感器，使机器能够在生产环境中生产，同时又是非常灵活和灵活的，当作为一个研发机器使用。

这也使得该机成为诸如ITO膜、柔性印刷电路板（FPCB）、LOW-E或智能玻璃等应用的。可旋转磁控管，涂层宽度为2000毫米，可能的衬底辊直径为500毫米，是高生产率的基础。

此外，相邻工艺段之间的可选气体分离允许在一个过程中沉积各种各样的金属和电介质层。

除了能够在非反应溅射工艺的同时运行反应溅射工艺外，HCFLC系列还可以配备各种原位传感器，用于连续、准确地监测所需的物理层特性，如层电阻率、反射率或透射比。