JFHK-ZKL箱式真空炉为我公司根据客户需求专业定制的热处理设备，主要用于：氮化硅镀膜、陶瓷电容器（MLCC）、金刚石、硬质合金等气氛烧结及金属的退火等工艺。本设备具有：自动化程度高、温度均匀、控制稳定、温区间温度扰动小、升降温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研及生产设备。

二、箱式真空炉技术指标

1、外型形式：方箱式，可移动式加热器

2、最高工作温度：900℃ 

3、常用工作温度：600-800℃

4、真空室有效尺寸：600（L）*600（D）*150（H）

5、加热元件：优质电阻丝

6、最大加热功率10KW，保温功率5KW

7、真空室材质：SUS310S耐热不锈钢

8、产品尺寸：Φ500mm*50mm铜线卷

9、料盒：共两层料盒，采用SUS310S不锈钢+石英板结构，即保证强度又不会污染产品

10、气路：氩气、氮气两路气体，从真空室底部进气，气路管件采用进口316L不锈钢管件

11、流量计：采用浮子流量计控制，氮气、氩气两路气体

12、真空系统：旋片真空泵

13、极限真空度：1Pa(7.5*10-3托)

14、最大充气压力：50KPa，系统具有恒压功能

15、真空计：热偶规+压敏电阻规，充氮气时使用热偶规，充氩气时使用压敏电阻规

16、真空测量量程：1Pa—50KPa

17、温控系统：日本岛电SRS10温控仪

18、控制方式：移项触发

19、最大升温速率：15℃/Min，升温范围：1-15℃/Min可调；

20、最大降温速率：10℃/Min，开启风冷后1小时左右由500度降至100度以下

21、冷却方式：水冷+风冷

22、操作方式：手、自动两种操作方式

23、保护：系统设有超温保护、缺水保护、真空系统阀门互锁保护

24、动力要求：供电电源：AC380V±10%、50Hz

             总功率：13KW、三相五线制

工艺气体压力：2～4Kg/cm3

             冷却水：2～4Kg/cm3  流量≤5m3/h  进水温度≤15℃ 

北京晶伏华控电子设备有限公司可根据客户需求专业定制各种箱式真空炉、管式真空炉、卧式真空炉、真空烧结炉、真空电阻炉、真空烤盘炉、真空扩散炉、真空退火炉、真空合金炉、真空交换炉、真空焊接炉、真空氧化炉、真空气氛炉、等各种工业、实验室用热处理设备。