一种低气压气体放电装置，一般由三部分组成：产生等离子体的电源、放电室、抽真空系统和工作气（或反应气）供给系统。通常有四类：静态放电装置（图5之a）、高压电晕放电装置(图5之b)、高频（射频）放电装置（有3种类型，图5之c）和微波放电装置（图5之d）。把被处理的固体表面或需要聚合膜层的基体表面置于放电环境中，由等离子体处理。由于低气压等离子体为冷等离子体，当气压为 133～13.3帕左右时，电子温度高达10000开，而气体温度只有300开，既不致烧坏基体，又有足够能量进行表面处理。 　低气压等离子体发生器已日益广泛应用于等离子体聚合、制备薄膜、刻蚀、清洗等表面处理工艺中。