一种低气压气体放电装置，一般由三部分组成：产生等离子体的电源、放电室、抽真空系统和工作气（或反应气）供给系统。通常有四类：静态放电装置（图5之a）、高压电晕放电装置(图5之b)、高频（射频）放电装置（有3种类型，图5之c）和微波放电装置（图5之d）。把被处理的固体表面或需要聚合膜层的基体表面置于放电环境中，由等离子体处理。